中、微5纳米等离子刻蚀机性能很好,但芯片仅为Quot;支持作用Quot;

来源:上海新型纳米材料研究公司 发布时间:2019-05-15 点击次数:

     最近,一些网络媒体表示,由微、中型半导体公司自主研发的5纳米等离子刻蚀机性能优异,将在世界第一条5纳米芯片生产线中使用。他们还表示,中国的芯片生产技术最终突破了欧美的封锁,首次占领世界制高点,超越了中国的曲线等。
    
     中微公司的蚀刻机确实是一流的,但有关专家反对夸大其战略意义,蚀刻机只是芯片制造中众多环节之一,蚀刻机在中国不被禁止销售。从这个意义上说,它们没有被卡住。
    
     首先,外行很容易混淆平版印刷机和蚀刻机。平版印刷机相当于画家,蚀刻机相当于雕刻家。前者用一张精细的电路图(就像照相机使胶片感光一样)投射到硅片上,后者用这张图作标记(如封条,腐蚀并去除非感光膜)。通缉部分)。
    
     光刻机是芯片制造中最昂贵的机器。为达到5纳米曝光精度,ASML公司拥有一台高端光刻机;而蚀刻机则不那么难,中小竞争对手也有应用材料、盘林、东京电子等。国外巨头在数量上有明显优势。
    
     《科技日报》采访了一位从事离子刻蚀的专家,他说中微等离子体刻蚀机近年来取得了很大的进步,但目前刻蚀机的精度远远超过了平版刻蚀机的曝光精度;在芯片制造中,刻蚀精度不再是最大的问题,更难以保证刻蚀的准确性。大晶圆的一致性。
    
     专家解释说,很难在蚀刻基板表面均匀分布电场能量和蚀刻气体,以确保等离子体中的有效元素,并在晶圆表面的每个位置实现相同的蚀刻效果,这需要对材料、流体力学、电磁学和真空P有全面的了解。拉玛。
    
     专家认为:更合理的结构设计和材质的选择可以保证电场的均匀分布,蚀刻气体的馈送方式也是关键之一。据我所知,尹志尧博士的团队在气体喷涂托盘上做了大量的工作,此外,电源、真空系统和蚀刻温度CO。控制全部影响蚀刻结果。
    
     此外,专家还指出,蚀刻机技术有多种类型,中性和它们的技术原理是非常不同的,至于更详细的技术细节,是每个制造商的核心秘密。
    
     顺便说一句:蚀刻和湿润(古代人知道如何用强酸蚀刻金属,现代技术用氟化氢蚀刻二氧化硅)和干法(例如在真空中用氩等离子体处理硅片)。湿法出现较早,通常用于低端产品。干法蚀刻通常是能量束蚀刻。ng、离子束、电子束、激光束等。精度高,无污染残留物。专家说,这种芯片是用等离子蚀刻技术制成的。


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